產品型號：
更新時間：2026-04-08
廠商性質：代理商
訪 問 量 ：234
028-68749778
產品分類
| 品牌 | ULVAC/日本愛發科 | 輸送介質 | 其他 |
|---|---|---|---|
| 泵軸位置 | 臥式 | 葉輪數目 | 其他 |
| 應用領域 | 綜合 |
日本ULVAC愛發科CVD蝕刻Qulee RGM2-201F
日本ULVAC愛發科CVD蝕刻Qulee RGM2-201F
排氣系統和控制系統集成實現垂直定位，最小的占地面積使其即使在空間有限的生產線中也能監測反應氣體。
在維護過程中，燈絲套件的更換速度得到了顯著提高，2名工人120分鐘的工作量，現在1名工人只需10分鐘即可完成。
雙絲允許在第一根絲斷裂時，無需停止生產線進行氣體分析。
使用觸摸面板進行實時狀態檢查。
從啟動到測量的操作僅在計算機上完成。
使用我們公司獨特的帶磁體封閉離子源，即使在反應過程中也能進行長時間和穩定的測量。
高度敏感的電離室具有低氣體解離性，僅使用法拉第杯即可進行高靈敏度氣體分析。
緊湊型通道控制閥，可防止由于熱反應引起的分解和吸附。
減少了從反應室到離子源的距離，使快速響應分解成為可能。
增強預防性維護功能
離子源和二次電子倍增管的預防性維護
安裝分析管的可追溯性功能
標準軟件兼容Windows 8/10/11。
在CVD/ALD/刻蝕設備中
在過程中對反應性氣體的監測
蝕刻清洗過程的端點監測
殘余氣體測量
| 質量數范圍 (amu) | 1~200 | |
| 分辨率 (M/ΔM) | M/ΔM=1M(10%P.H.) | |
| 探測器 | 法拉第杯 (FC) | |
| 靈敏度 (A/Pa) *1 | 1e-5A/Pa（直接孔口安裝，Ie=50uA） N2氣體在Ee50V時 =5e-4Pa | |
| 檢測到的分壓 (Pa) *1 | e-10Pa (EE50V, Ie500uA) | |
| 總壓測量功能*1 | 是的。 | |
| 總壓力測量范圍 *1 | 1e-3 ~ e-6 帕 | |
| 離子源 | 帶磁體的封閉離子源 | |
| 燈絲 | Ir/Y2O3 2件（其中一件是備用件） | |
| 電離電壓 (EE; 電子伏特) | 20~70eV（推薦Ie50 uA時使用50 V設置） | |
| 發射電流 (IE; 微安) | 50uA/500uA (EE50V，推薦用于過程測量的50uA) | |
| 連接法蘭 | VCR1/2 "Osnut 等效 | |
| 規格壓力 | 選擇0.5~30 Pa/10~500 Pa | |
| 渦輪分子泵 | UTM70B (70升/秒) | |
| 前線泵 | 無 前線進口：KF16 保證運行前線壓力：500 Pa或更低 前線壓力檢查皮拉尼真空計：SW100-A | |
| 真空計用于監測設備壓力 | 電容式壓力計 “型號:CCMT" | |
| 電源電壓 | 選擇 AC100~120 V/6 A，AC200~220 V/3 A | |
| 壓縮空氣 | 干氮氣：0.4MPa | |
| 質量 | 20公斤 | |
| 控制單元 | 觸摸面板 | |
| 模塊型加熱單元 | 110°C±10°C | |
| 分析管 | RGM-AN202/302 | RGM(2)-202.302 共享 |
| 燈絲 | QFL-002 | RGM(2)-202.302 共享 |
| 離子源 | RGM-IS01 | RGM(2)-202.302 共享 |
| 二次電子倍增管 (SEM) | QEM-001 | RGM(2)-202/302, HGM(2)-202/302 共享 |
| RGM 孔 | QOF-100 | RGM(2)-202/302，REPROS 共享 |
| RGM 孔 | QOF-040 | RGM(2)-202/302，REPROS 共享 |
| RGM 孔 | QOF-010 | RGM(2)-202/302，REPROS 共享 |
| RGM 孔 | QOF-005 | RGM(2)-202/302，REPROS 共享 |
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