
產(chǎn)品型號(hào):
更新時(shí)間:2026-06-30
廠商性質(zhì):代理商
訪 問(wèn) 量 :60
028-68749778
產(chǎn)品分類(lèi)
| 品牌 | OTSUKA/大塚電子 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
日本OTSUKA大塚西南代理嵌入式膜厚監(jiān)測(cè)器

日本OTSUKA大塚西南代理嵌入式膜厚監(jiān)測(cè)器
日本OTSUKA大塚電子嵌入式膜厚監(jiān)測(cè)器,是專(zhuān)為工業(yè)產(chǎn)線全流程閉環(huán)質(zhì)控打造的集成式非接觸檢測(cè)方案,依托大塚深耕光學(xué)量測(cè)領(lǐng)域的核心技術(shù)積累,將高精度膜厚檢測(cè)能力直接嵌入生產(chǎn)工位,打破傳統(tǒng)離線實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)的滯后性痛點(diǎn),實(shí)現(xiàn)薄膜沉積、研磨、鍍膜等工藝的實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)管控。
該系列監(jiān)測(cè)器以光譜干涉技術(shù)為核心,不同型號(hào)可覆蓋1nm至92μm的超寬膜厚量程,部分機(jī)型甚至支持最高5層薄膜的同步解析,最小測(cè)量光斑低至φ3μm,可精準(zhǔn)定位晶圓微區(qū)、精密元器件局部涂層等傳統(tǒng)設(shè)備難以覆蓋的檢測(cè)點(diǎn)位,避免周邊區(qū)域信號(hào)干擾。設(shè)備采用模塊化分體設(shè)計(jì),將核心光學(xué)檢測(cè)單元與控制主機(jī)分離,檢測(cè)探頭體積緊湊,可直接安裝在鍍膜機(jī)腔體、研磨輪側(cè)、CMP工藝工位等狹小空間內(nèi),無(wú)需占用大量產(chǎn)線布局空間。
全系列機(jī)型標(biāo)配LAN(TCP/IP)與I/O觸發(fā)接口,可直接對(duì)接產(chǎn)線PLC系統(tǒng),最高支持5kHz的采樣速率,單次檢測(cè)最快僅需200μs,能在薄膜沉積過(guò)程中實(shí)時(shí)反饋厚度數(shù)據(jù),配合產(chǎn)線控制系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)整工藝參數(shù),大幅降低晶圓破片率,將薄膜厚度均勻性提升至±0.5%以內(nèi)。針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的特殊需求,部分機(jī)型還搭載了安全互鎖機(jī)制與環(huán)境振動(dòng)補(bǔ)償算法,可在高潔凈度、強(qiáng)振動(dòng)的產(chǎn)線環(huán)境下長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行,數(shù)據(jù)一致性不受工況波動(dòng)影響。
該系列產(chǎn)品覆蓋多場(chǎng)景適配機(jī)型:面向微小區(qū)域檢測(cè)的OPTM-H系列,可實(shí)現(xiàn)1秒/點(diǎn)的高速微區(qū)膜厚采集;面向晶圓研磨制程的SF-3系列,支持6~1300μm的硅片厚度穿透式監(jiān)測(cè);面向通用涂層產(chǎn)線的FE-300F嵌入式版本,以高性價(jià)比適配光學(xué)膜、包裝涂層等常規(guī)工業(yè)場(chǎng)景。所有機(jī)型均支持自定義宏測(cè)量序列,可根據(jù)不同產(chǎn)品的工藝需求一鍵切換檢測(cè)參數(shù),無(wú)需人工反復(fù)調(diào)試。
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