日本OTSUKA大塚西南代理膜測量系統nanoSAQ

日本OTSUKA大塚西南代理膜測量系統nanoSAQ動態光散射（DLS）技術打造的高通量納米顆粒分析旗艦設備，專為實驗室批量樣品質控、新材料研發場景設計，憑借多通道并行檢測架構，突破傳統單通道納米粒度儀單次僅能測1個樣品的效率瓶頸，成為納米材料、生物醫藥、半導體研磨液等領域的高效檢測利器。

該系統采用全新升級的非浸入式光學檢測設計，檢測探頭無需浸入樣品溶液避免了傳統浸入式設備的交叉污染問題，無需反復清洗探頭即可連續完成多組樣品檢測，大幅降低操作復雜度與樣品間的相互干擾。依托多檢測體并行測量架構，設備可同時支持最多5個樣品的同步檢測，單次全流程測量僅需約1分鐘，批量樣品的檢測效率是傳統單通道設備的5倍以上，適配實驗室高通量質控的日常需求。

設備的核心性能覆蓋超寬檢測范圍，可穩定完成0.6nm至10μm區間內的納米顆粒粒徑分析，搭配直方圖分析功能，最小可精準識別0.2nm級的超微小顆粒，從低濃度的稀溶液到高濃度的不透光懸浮液，都能獲得穩定可靠的檢測結果，無需對樣品進行反復稀釋，避免稀釋過程中引入的顆粒團聚、樣品性質改變等誤差。整機采用輕量化緊湊設計，體積小巧可直接放置在常規實驗臺面上，無需占用大量實驗室空間，適配各類有限空間的布局需求。

系統內置多條件獨立設置功能，5個并行檢測通道可分別設置不同的溫度、測量時長、分析模式參數，支持不同實驗條件的樣品同步測量，無需分批等待，大幅提升研發階段的實驗效率。廣泛應用于納米材料研發、生物醫藥蛋白表征、半導體CMP研磨液質控、膠體懸浮液穩定性分析等核心場景，是兼顧高精度與高通量的納米粒度檢測優選方案。