日本OTSUKA大塚西南代理膜厚監(jiān)測儀FE-300F

日本OTSUKA大塚西南代理膜厚監(jiān)測儀FE-300F

日本OTSUKA大塚電子FE-300F薄膜厚度監(jiān)測儀，是面向工業(yè)現(xiàn)場與常規(guī)實驗室推出的緊湊型非接觸膜厚測量設備，以“小型化、高精度、易操作"為核心設計理念，在兼顧專業(yè)級檢測能力的同時大幅降低使用門檻，是薄膜生產(chǎn)、涂層質(zhì)控場景的高性價比優(yōu)選方案。

這款設備依托大塚電子自主研發(fā)的高精度光學干涉分光技術，通過采集樣品表面與基底界面的反射干涉光譜，結合峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法等多種解析算法，無需接觸樣品即可完成無損測厚，避免傳統(tǒng)接觸式測厚可能造成的軟膜、超薄涂層劃傷問題。它的測量光斑僅為φ1.2mm，可覆蓋3nm至35μm的寬量程范圍，既可以精準檢測納米級的光學功能膜，也能滿足微米級厚涂層的測量需求，同時支持最多10層多層膜的同步解析，還可同步輸出折射率n、消光系數(shù)k等光學常數(shù)參數(shù)。

FE-300F機身尺寸僅為W85.6×D225～235×H151mm，整機重量僅2.76kg，體積小巧便于在產(chǎn)線工位、實驗臺有限空間內(nèi)靈活布置，工作溫度適配-10℃至+50℃的寬溫環(huán)境，可適應工業(yè)車間的復雜工況。設備操作流程經(jīng)過大幅簡化，無需專業(yè)光學背景的操作人員也能快速完成參數(shù)設置與測量，單次檢測最快僅需0.1秒，適配產(chǎn)線在線抽檢的效率要求。

它的適用場景覆蓋極為廣泛：功能薄膜領域可檢測ITO透明導電膜、AR增透膜、PET保護膜、硬涂層、防指紋膜等；半導體領域可適配硅片氧化膜、氮化膜、光刻膠、SiC/GaN等化合物半導體薄膜；同時也能滿足DLC類金剛石涂層、光學濾光片、FPD顯示面板有機膜等場景的檢測需求。